Anwendungen des metallischen Werkstoffs Tantal

Mar 07, 2024

Tantalum TungstenTantalum TungstenTantalum Tungsten

 

 

Tantal-Target-Material wird normalerweise als bloßes Target bezeichnet. Zunächst wird es mit einem Kupfer-Trägertarget verschweißt, und dann werden durch Halbleiter- oder optisches Sputtern Tantalatome unter Oxidbildung auf dem Substratmaterial abgeschieden, um eine Sputterbeschichtung zu realisieren. In der Halbleiterindustrie wird derzeit hauptsächlich Metalltantal (Ta) durch die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD)-Beschichtung und Bildung einer Barriereschicht als Zielmaterial verwendet. Wie wir alle wissen, ist die Leistung von Tantalmetall zwar relativ stabil, aber die feinere Partikelgröße von Tantalmetallpulver ist aktiver und reagiert bei Raumtemperatur mit Sauerstoff, Stickstoff usw., so dass Sauerstoff, Stickstoff und andere Verunreinigungen entstehen im Tantalpulvergehalt steigt. Um qualitativ hochwertige Tantal-Targets zu erhalten, ist es notwendig, zunächst den Verunreinigungsgehalt im Tantalpulver zu reduzieren und die Reinheit des Tantalpulvers zu verbessern. Die Reduzierung der Partikelgröße von Tantalpulver ist notwendig, um die Qualität von Tantalpulver und Tantal-Targets zu verbessern. Tantal-Targets werden hauptsächlich in der Halbleiterbeschichtung, optischen Beschichtung, Dekoration, Flachbildschirmen, funktionalen Beschichtung und anderen optischen Informationsspeicherungsindustrien, Glasbeschichtungsindustrien wie Automobilglas und Architekturglas sowie in der optischen Kommunikation verwendet. Halbleiter nutzen den PVD-Prozess (Physical Vapour Deposition), um Tantal-Sputtertargets auf Halbleitersubstrate zu „sputtern“, um Dünnfilm-Diffusionsbarrieren zum Schutz von Kupferverbindungen zu bilden. Tantal-Sputtertargets werden auch in einer Vielzahl anderer Produkte verwendet, darunter magnetische Speichermedien, Tintenstrahldruckerköpfe und Flachbildschirme. Der hohe Schmelzpunkt und die Korrosionsbeständigkeit von Turbinenschaufeln machen sie ideal für Legierungsanwendungen. Tantal wird in Nickelbasis-Hochtemperaturlegierungen verwendet, wobei die Hauptanwendungsgebiete Turbinenschaufeln für Flugzeugtriebwerke und landgestützte Gasturbinen sind. Chemische Verarbeitungsanlagen weisen eine extrem hohe Korrosions- und Hochtemperaturbeständigkeit auf, was das Metall zu einem idealen Konstruktionsmaterial für die Auskleidung von Behältern, Rohren, Ventilen und Wärmetauschern in der chemischen und pharmazeutischen Industrie macht.

 

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